低溫恒溫循環(huán)器的應(yīng)用

低溫恒溫反應(yīng)浴常應(yīng)用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

提供-40℃~105℃溫度范圍內(nèi)的高、低恒溫液體，以滿足用高、低溫做反應(yīng)的恒溫儀器的需要。

特別適用與化學反應(yīng)釜、發(fā)酵罐、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發(fā)皿、生物制藥反應(yīng)器等實驗設(shè)備配套使用。

先進的內(nèi)循環(huán)和外循環(huán)泵系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)使儀器溫度均勻恒定，外循環(huán)泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體。8升~40升的工作槽容積內(nèi)還可放入裝有生化試劑或被測樣品的各種容器，直接進行高低溫試驗或測試，實現(xiàn)一機多用

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您好，我司是一支技術(shù)力量雄厚的開發(fā)群體，為廣大用戶提供上等的技術(shù)服務(wù)公司。主要產(chǎn)品有快速水分測定儀、表面張力儀、高溫油槽等。本企業(yè)堅持以誠信立業(yè)、以品質(zhì)守業(yè)、以進取興業(yè)的宗旨，歡迎新老顧客放心選購自己心儀的產(chǎn)品。我們將竭誠為您服務(wù)！

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